Tooted

EDM -i grafiidi elektroodil on mõõduka tiheduse, sileda pinna ja odavate kulude omadused ning see sobib keemiatööstuseks, metallisulamiseks jne. Vetek Semiconductoril on tugev tootmisvõimsus ja rikkalik ekspordikogemus EDM -i grafiidielektrooditoodetes. Olete oodatud igal ajal küsima.

Ioonkiirt kasutatakse peamiselt ioonide söövitamiseks, ioonide katmiseks ja plasma süstimiseks. Ion Beam Sputter allikate võrgustiku ülesanne on ioonide eraldamine ja nende kiirendamine vajaliku energiani. Vetek Semiconductor pakub kõrge puhtusastmega grafiidi ioonkiirt Ion Beam Sputter allikate võre optiliste läätsede ioonkiire poleerimiseks, pooljuhtvahvlite modifitseerimiseks jne. Tere tulemast küsima kohandatud toodete kohta.

Peen teraga kõrge puhtus isotroopne grafiit on vajalik materjal tipptasemel rakenduste jaoks nagu pooljuhid ja fotogalvaanilised ained ning sellel on laiad turu väljavaated. Tehnoloogiliste edusammudega on Vetek Semiconductoril tootmis- ja tarnevõimalused suures koguses peene teraga kõrge puhtuse isotroopse grafiidi jaoks. Me tervitame teie päringuid igal ajal.

Pooljuhtkvaliteediga Quartz Bell Jar on oluline seadmekomponent, mida kasutatakse peamiselt kõrge temperatuuri, kõrge rõhu ja kõrge puhtusastmega keskkondades. See on valmistatud kõrge puhtusastmega kvartsmaterjalist, sellel on suurepärane termiline stabiilsus, keemiline vastupidavus ja optiline läbipaistvus ning seda kasutatakse laialdaselt sellistes tööstusvaldkondades nagu pooljuhtide tootmine ja LED-tootmine. VeTek Semiconductoril on pooljuhtkvaliteediga Quartz Bell Jar protsesside kogunemine palju aastaid ja see võib pakkuda kohandatud tooteid vastavalt klientide vajadustele. Ootan teie päringut.

Vetek Semiconductor pakub suure jõudlusega kõrge puhtusega kvartsi vahvlipaati, mis on ette nähtud pooljuhtide ja fotogalvaanilise tootmise kõige nõudlikumate rakenduste jaoks. Kvaliteetsest kvartsmaterjalist valmistatud sellel on ülimadalate saasteomadused, tagades kõrge puhtusega kvartsi vahvli paadi suurepärase jõudluse kõrge temperatuuriga keskkonnas ja see võib tõhusalt ära hoida vahvli saastumist. Oma tootmisprotsessi parandamiseks valige Vetek Semiconductor. Ootan igal ajal teie järelepärimist.

Oluline komponent, mida kasutatakse vahvli valmistamise söövitusprotsessis, on plasma söövitusrõngas, mille funktsioon on vahvli hoidmine plasmatiheduse säilitamiseks ja vahvli külgede saastumise vältimiseks. VETEK -i pooljuhtide fookus pakub plasma söövitusrõngast erinevate materjalidega, näiteks monokriinne räni, räni, boron carbide.