Tugiteenus

VeTek Semiconductor tarnib kvaliteetseid alumiiniumnitriidi (AlN) ühekristallplaate ja substraate järgmise põlvkonna ülilaia ribalaiusega pooljuhtseadmetele. Ülilaia, ligikaudu 6,2 eV ribalaiusega, silmapaistva soojusjuhtivuse, erakordse elektriisolatsiooni ning suurepärase võre ja soojuspaisumise sobivusega GaN-iga, on AlN-plaadid ideaalsed suure võimsusega RF-seadmete, kõrgepinge jõuelektroonika ja sügav-ultraviolettkiirguse (DUV) optoelektroonika jaoks.

VETEK professionaalne puhastusteenus CVD SiC kaetud grafiitdetailidele on spetsiaalne tehniline teenus, mis on loodud Aixtroni / Veeco MOCVD seadmete susseptoritele ja grafiitkomponentidele, mida kasutatakse GaN / AlN / AlGaN epitaksiaalprotsessides. Meie patenteeritud puhastusprotsess kõrvaldab põhjalikult pinnamäluefekti, taastab stabiilse gaasivoolu reaktoris ja kaitseb rangelt 100 µm CVD SiC katet absoluutse nulli paksuse kadu ja null metallijäägiga.

Kuna nõudlus suure tundlikkusega ja väikese võimsusega MEMS-andurite järele kasvab koos 5G-side, täppismeditsiiniseadmete ja nutikate kantavate seadmete laienemisega, pakuvad meie PZT on Si/SOI-plaadid kriitilist materjalilahendust. Kasutades täiustatud õhukese kile sadestamise protsesse, nagu sool-geel või pihustamine, saavutame ränisubstraatidel erakordse konsistentsi ja suurepärase piesoelektrilise jõudluse. Need vahvlid on elektromehaanilise energia muundamise põhiline südamik.

Ränikarbiidi kristallide kasvatamine on suure jõudlusega pooljuhtseadmete tootmise põhiprotsess. Kristallide kasvatamise seadmete stabiilsus, täpsus ja ühilduvus määravad otseselt ränikarbiidist valuplokkide kvaliteedi ja saagise. Põhinedes füüsikalise aurutranspordi (PVT) tehnoloogia omadustel, on Veteksemi välja töötanud takistuskuumutusahju ränikarbiidi kristallide kasvatamiseks, mis võimaldab stabiilselt kasvatada 6-tollise, 8-tollise ja 12-tollise ränikarbiidi kristalle, mis on täielikult ühilduvad juhtivate, poolisolatsioonimaterjalide ja N-tüüpi materjalide süsteemidega. Temperatuuri, rõhu ja võimsuse täpse juhtimise abil vähendab see tõhusalt kristallide defekte, nagu EPD (Etch Pit Density) ja BPD (basaaltasandi nihestus), samal ajal omab madalat energiatarbimist ja kompaktset disaini, mis vastab tööstusliku suuremahulise tootmise kõrgetele standarditele.

CMP poleerimispulber (Chemical Mechanical Polishing Slurry) on suure jõudlusega materjal, mida kasutatakse pooljuhtide valmistamisel ja materjalide täppistöötlemisel. Selle põhiülesanne on saavutada materjali pinna peen tasasus ja poleerimine keemilise korrosiooni ja mehaanilise lihvimise sünergilise mõju all, et täita tasasuse ja pinnakvaliteedi nõudeid nanotasandil. Ootan teie edasist konsultatsiooni.

Juhtiva Hiina SIC -vahvli tootjate ja tarnijatena on Vetek Semiconductor CVD SIC -katte mannekeeni vahvliks spetsiaalne tööriist pooljuhtide tootmisel, mida kasutatakse peamiselt räni vahvli testimise ja vahvli testimise protsessi jaoks. Teie edasised päringud on teretulnud.