Pehme vild

1. Suurepärane isolatsiooni jõudlus: See võib tõhusalt vähendada soojuskadu, säilitada seadme sees stabiilset temperatuurikeskkonda ja vähendada energiatarbimist.

2. Hea kõrgtemperatuuri vastupidavus: Pehme vild suudab kõrge temperatuuri tingimustes säilitada stabiilseid füüsikalisi ja keemilisi omadusi ning talub fotogalvaaniliste ja pooljuhtide tootmisprotsessides kõrge temperatuuri keskkonda.

3. Madal soojusjuhtivus: Aitab saavutada täpset temperatuurikontrolli, parandada protsessi stabiilsust ja toote kvaliteeti.

4. Kõrge keemiline stabiilsus: Sellel on hea resistentsus enamiku keemiliste ainete suhtes ja see ei ole kergesti söövitav ega saastunud.

5. Kõrge puhtus: vähendab lisandite sekkumist fotogalvaanilistele ja pooljuhtide tootmisprotsessidele, tagades toote jõudluse ja kvaliteedi.

6. Hea termiline šokikindlus: Võimalik taluda kiireid temperatuurimuutusi ja mitte kergesti rebeneda ega kahjustada.

1. Ühekristalliahju termilised välja komponendid: Czochralski üksikkristall -ahjus saab grafiidi pehmet vild kasutada isolatsioonimaterjaliks, et tõhusalt säilitada ahjus temperatuurigradient, parandada kristallide kasvu kvaliteeti ja stabiilsust.

2. Polükristalliline valuplokiahju: Termilise isolatsioonimaterjalina vähendab see soojuskadu, optimeerib termilise välja jaotust ja aitab parandada polükristalliliste räni valuplokkide kvaliteeti ja tootmist.

3. Difusiooniahju: Kasutatakse isolatsiooniks, ahjus temperatuuri ühtluse tagamiseks ning difusiooniprotsesside täpsuse ja järjepidevuse parandamiseks.

4. Epitaksiaalne ahi: annab epitaksiaalse kasvuprotsessi jaoks stabiilse soojuskeskkonna, vähendades temperatuuri kõikumiste mõju pooljuhtide epitaksiaalsete kihtide kvaliteedile.

5. Pooljuhtide pakend: Mõnes tipptasemel pooljuhtpakendiprotsessides mängib see rolli isolatsioonis, puhverdamises ja toetamisel, kaitstes kiipi termiliste ja mehaaniliste stressikahjustuste eest.

6. Fotogalvaanilised rakud valmistamisseadmed: nagu plasma täiustatud keemilise aurusadestumise (PECVD) seadmed, mida kasutatakse seadme sees temperatuuri stabiilsuse säilitamiseks ja õhukese kile ladestumise kvaliteedi tagamiseks.

Vetek Semiconductor grafiit pehme vildiga:

Rayonil põhinev süsinik/grafiidi vild Sellel on sellised omadused nagu kõrge temperatuurikindlus, korrosioonikindlus, kõrge puhtus, madal tuhasisaldus ja naftasaaste puudub. Väike traadi läbimõõt, tugev isolatsiooni jõudlus. Kasutatakse peamiselt üksikute kristallide kasvu ahjudes ja tipptasemel tipptasemel seadmetes.

Pigipõhine süsinik/grafiidi vild Kasutades saksa originaalset siidi kudumist, on selle korrosioonikindlus, oksüdatsiooniresistentsus ja puhtus paremad kui Rayonipõhised materjalid ja sellel on parem isolatsiooni jõudlus. Kasutatakse peamiselt suure jõudlusega seadmetes fotogalvaaniliste üksikkristallide tööstuses.

Pan -süsinik/grafiidi vild Sellel on sellised omadused nagu kõrge temperatuurikindlus, korrosioonikindlus, kõrge puhtus, vähese tuhasisaldus, kerge ja pehme tekstuur ning kõrge kujuga peetav. Kõrgtemperatuurilistes keskkondades, mida kaitstud vaakum- või inertse gaasiga, on selle isolatsiooni jõudlus parem ja stabiilne. Kasutatakse laialdaselt kõrge temperatuuriga seadmetes, näiteks üksikute kristallide kasvu ahjud, polükristallilised valuplokiahjud ja keskmise sageduse induktsiooniahjud.

Eel oksüdeeritud grafiidi vildist Kvaliteetsete toorainete range sõelumise ja tootmisprotsesside pideva täiustamise kaudu on saadud isolatsiooni jõudlusega toode, mis sarnaneb Rayonipõhise grafiidi vildile ja eluiga parem kui pannil põhinev grafiidi vild; Sellel on hea isolatsiooni omadused, erosioonikindlus, kõrge puhtus, madal tuhasisaldus, kõrge tugevus ja pikk kasutusaja ning sellel on ülikõrgete kulude suhe. Seda kasutatakse laialdaselt üksikute kristallide kasvu ahjudes, polükristallilistest valuplokiahjudes ja keskmise sagedusega induktsiooni kõrgtemperatuuriliste ahjude ja grafiidiresistentsusega kõrgtemperatuuriliste ahjude. "

Aku vildid Valmistatud kvaliteetsetest saksa impordidest pannil põhinevatest kiududest, sellel on erandlik jõudlus parameetrites nagu tasasus, poorsus, tihedus, spetsiifiline pindala ja juhtivus. Seda kasutatakse peamiselt sellistes rakendustes nagu kütuseelemendid ja vooluakud.