Kõrge puhtus grafiidi pehme vild

Termovälja isolatsioon Süsinikumaterjalide rakendus taust

Soojusvälja isolatsioon Süsinikumaterjalid on kaetud termilise välja funktsionaalsete komponentide perifeeria ja erinevate ahjukehade sees ning neid kasutatakse peamiselt soojusvälja ruumi ja soojuse isolatsiooni ehitamiseks. Ehkki süsinikkiudu on kõrge soojusjuhtivusega, on süsinikkiust materjal lahti ja poorne süsinikkiust polümeer. Kiud tuginevad vildist keha kuju säilitamiseks hõõrdumisele. Kiud kattuvad koos, mis on punktikontakt, mis vähendab tunduvalt tahke soojuse juhtivuse teel üle kantud soojust. Eriti kõrge temperatuuriga termilistes väljades (näiteks üle 800 ℃), suureneb kiirguse intensiivsus ja soojusülekande peamiseks vormiks saab termiline kiirgus. Kiirguslained peegelduvad pidevalt kiudude vahel ja hajub vildi keha sees, saavutades seeläbi soojusisolatsiooni mõju.

Kõige sagedamini kasutatav termiline isolatsioonimaterjal on erinevates vormides kõrge puhtusega grafiidiga pehme tunduv. Kõrge puhtus grafiidi pehme vild on valmistatud õhukestest kiududest. Pehme kõrge puhtusega grafiidi pehme vild kootud suhteliselt õhukesteks lehtedeks, seejärel lõigatakse soovitud kuju ja painutatakse tihedalt mõistlikuks raadiusse.

Kõrge puhtus grafiidi pehme vildi klassifikatsioon

Erinevate kasutatavate toorainete kohaselt võib kõrge puhtusega grafiidipehme vild jagada kolme kategooriasse: PAN-põhine, viskoosipõhine ja asfaldipõhine:

Võrreldes PAN-põhiste ja asfaldipõhiste materjalidega, on viskoosipõhistel süsinikmaterjalidel soojusisolatsioonis parem jõudlus. Seetõttu on viskoosipõhine kõrge puhtusega grafiitide pehme vild ka pooljuhtide ja fotogalvaanilise termilise välja isolatsiooni süsinikumaterjalide peavoolu valik.

Suure puhtusega grafiidi pehme vildi rakendamine PVT -meetodil

PVT -meetodit kasutatakse tavaliselt tööstuses räni karbiidi üksikkristallide kasvatamiseks. SIC -pulber on täidetud grafiidi tiigli põhjaga ja SIC -seemnekristall on seotud grafiidi tiigli katte sees teatud kaugusega tooraine pinnast ja seejärel asetatakse grafiidi tiigble kogu grafiidi kuumutamisse. Reguleerides välise kõrge puhtusega grafiidi pehme vildi temperatuuri, asetatakse SIC tooraine kõrge temperatuuri tsooni ja SIC seemnekristall on vastavalt madala temperatuuriga tsoonis.

Selle protsessi käigus on SIC -i üksikute kristallide kasvu jaoks kõige olulisem pindala, mis koosneb tiiglist ja ümbritsevast soojuisolatsioonimaterjalist. Kristallide kasvukamber võib jõuda väga kõrgele temperatuurile (kuni 3000 ℃), sellel kõrgel temperatuuril suudab Veteki pooljuhtide kõrge puhtusega grafiidiga pehme vild vastu pidada nii kõrgele temperatuurile ja nii kõrgel temperatuuril ei reageeri see SIC-sublimatsiooniga, suurepärase soojus isolatsioonitulemusega, termilise isolatsiooni jõudlusega, et tagada kvaliteetse SIC-i kristalli kasv.

Veteki pooljuhtide kõrge puhtusega grafiitide pehme vild on induktsiooniahjudes asendamatu isolatsioonimaterjal. Sisseadmeahjud tekitavad töötamisel palju soojust ja suure puhtusega grafiidi pehmel vildel on madal soojusjuhtivus ja madal spetsiifiline kuumus, mis tagab temperatuuri stabiilsuse ja ühtluse ahjus ning parandab ahju soojuslikku efektiivsust. Samal ajal mängib rolli ka induktsiooniahju korpuse tihendamisel ja isoleerimisel rolli, hoides ära ahjus soojuse ja gaasi lekke.

Andmeleht Vetek Semiconductori kõrge puhtusega kõrge puhtusega grafiitide pehme vild

Vetek Semiconductor kõrge puhtusega kõrge puhtusega grafiidiga pehmete vildidega tooted poed