Veebi menüü

Tooteotsing

Keel

Soovitatavad tooted

Meist
Meist

VeTek Semiconductor Technology Co., Ltd.


2016. aastal asutatud VeTek semiconductor Technology Co., LTD. on pooljuhttööstuse juhtiv täiustatud kattematerjalide pakkuja. Meie asutaja, endine Hiina Teaduste Akadeemia Materjalide Instituudi ekspert, asutas ettevõtte, keskendudes tööstusele tipptasemel lahenduste väljatöötamisele.

Meie peamised tootepakkumised hõlmavadCVD ränikarbiidi (SiC) pinnakatted, tantaalkarbiidi (TaC) pinnakatted, puiste SiC, SiC pulbrid ja kõrge puhtusastmega SiC materjalid. Peamised tooted on ränikarbiidiga kaetud grafiidisusseptor, eelsoojendusrõngad, TaC-ga kaetud ümbersuunamisrõngas, poolkuu osad jne, puhtus on alla 5 ppm, võib vastata klientide nõudmistele.
Vaata rohkem
Vetek on Hiina ränikarbiidkatte, tantalumi karbiidi katte, spetsiaalse grafiidi tootja ja tarnija professionaal Hiinas. Võite olla kindel, et ostate tooteid meie tehasest ja pakume teile kvaliteetset müügijärgset teenust.

Uudised

  • Mis on pecVD grafiidipaat?
    2025-03-04
    Mis on pecVD grafiidipaat?

    PECVD grafiidipaadi põhimaterjal on kõrge puhtusega isotroopne grafiidimaterjal (puhtus on tavaliselt ≥99,999%), millel on suurepärane elektrijuhtivus, soojusjuhtivus ja tihedus. Võrreldes tavaliste grafiidipaatidega, on PECVD grafiidipaatidel palju füüsilisi ja keemilisi omadusi eeliseid ning neid kasutatakse peamiselt pooljuhtide ja fotogalvaaniliste tööstusharudes, eriti PECVD ja CVD protsessides.

  • Kuidas poorne grafiit suurendab räni karbiidi kristallide kasvu?
    2025-01-09
    Kuidas poorne grafiit suurendab räni karbiidi kristallide kasvu?

    See ajaveeb võtab "Kuidas poorne grafiit suurendab räni karbiidi kristallide kasvu?" Oma teemana ja arutab üksikasjalikult poorseid grafiidi võtmeid, räni karbiidi roll pooljuhtide tehnoloogias, poorse grafiidi ainulaadsed omadused, kuidas poorne grafiit optimeerib PVT -protsessi, uuendusi poorsetes grafiidimaterjalides ja muudes nurkades.

  • CVD -tehnoloogia uuendus Nobeli auhinna taga
    2025-01-02
    CVD -tehnoloogia uuendus Nobeli auhinna taga

    Selles ajaveebis käsitletakse tehisintellekti konkreetseid rakendusi CVD valdkonnas kahest aspektist: keemilise aurude sadestamise (CVD) tehnoloogia olulisust ja väljakutseid füüsikas ning CVD -tehnoloogia ning masinaõpe.

  • Mis on SIC-kattega grafiidisaaja?
    2024-12-27
    Mis on SIC-kattega grafiidisaaja?

    See ajaveeb võtab "Mis on SIC-kattega grafiidiotsija?" Oma teemana ja arutab seda epitaksiaalse kihi ja selle seadmete vaatenurgast, SIC -i kaetud grafiidiotsija olulisusest CVD -seadmetes, SIC -kattetehnoloogias, turukonkurentsil ja Vetek Semiconductori tehnoloogilistes innovatsioonides.

  • Kuidas valmistada CVD TAC kattekihti? - Veteksemicon
    2024-08-23
    Kuidas valmistada CVD TAC kattekihti? - Veteksemicon

    Selles artiklis tutvustatakse CVD TAC -katte tooteomadusi, CVD TAC -katte valmistamise protsessi CVD -meetodi abil ja põhimeetodit ettevalmistatud CVD TAC -katte pinna morfoloogia tuvastamiseks.

  • Mis on tantaalkarbiid TAC -kattekiht? - Veteksemicon
    2024-08-22
    Mis on tantaalkarbiid TAC -kattekiht? - Veteksemicon

    See artikkel tutvustab TAC -katte tooteomadusi, konkreetset protsessi TAC -katte toodete valmistamise protsess CVD -tehnoloogia abil, tutvustab Veteksemiconi populaarseimat TAC -kattekihti ja analüüsib lühidalt Veteksemiconi valimise põhjuseid.

  • Mis on TAC -kate? - Veteki pooljuht
    2024-08-15
    Mis on TAC -kate? - Veteki pooljuht

    Selles artiklis tutvustatakse peamiselt TAC -i katte tooteid, tooteomadusi ja peamisi funktsioone pooljuhtide töötlemisel ning teeb TAC -katte toodete tervikuna põhjaliku analüüsi ja tõlgendamist.

X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept