Pooljuhtkeraamiline otsik

Pooljuhtide keraamiline otsik mängib olulist rolliHDP-CVD protsess, mida kasutatakse gaasivoolu täpseks juhtimiseks ja tagamisekskvaliteetne filmide ladestumine. Keraamilise düüsipihustus on täpselt konstrueeritud, et tagada gaasi voolukiirused järjepidevad ja kontrollitavad, minimeerides võimaliku turbulentsi, kui gaasi siseneb reaktsioonikambrisse.

Tehnilised spetsifikatsioonid:

1. Materiaalne kompositsioon:

Veteki pooljuhtide keraamiline liiva lõhkamine on tavaliselt valmistatud pooljuhtide keraamikast, näiteks alumiiniumoksiid (Al2O3),ränikarbiid (SiC), või tsirkooniumoksiid (ZrO2), neil materjalidel on suurepärased omadused:

    • kõrge termiline stabiilsus (talub temperatuuri üle 1000 ℃)

    • vastupidavus korrosioonile kasutatavate reaktiivsete gaaside pooltCVD -protsessid(nagu silaan, ammoniaak)

    • Vastupidavus pidevale plasma kokkupuutele.

2. konstruktsioonidisain:

    .

    • Nurgad ja geomeetriad: täpselt kavandatud tagama gaasi ühtlase jaotumise kogu aluspinnal, minimeerides ladestunud kihi defekte.

Pooljuhtide tööstuses mängib Semiconductor keraamiline pihustusotsik võtmerolli peamiselt HDP-CVD protsessis. Neid kasutatakse ka õhukeste kilede sadestamiseks mikroelektroonika tootmiseks, tagades kvaliteetse, ühtlase ja saastevaba pinnakatte.

Vetek Semiconductor keraamiliste otsikupoed: