VETEK CNC täppistöötluse töökojas: kõrge puhtusastmega pooljuhtkomponentide aluse loomine

Astuge sisse VeTek Semiconductori CNC täppistöötlemise töökotta ja saate tunnistajaks kaasaegse tootmise vaiksele jõule. Automatiseeritud seadmed töötavad täiuslikus rütmis. Kiired spindlid, mida juhivad täpsed CNC-programmid, töötavad harmoonias, kuna lõiketööriistad muudavad kiht-kihi haaval külmad toorikud ülitäpseteks komponentideks. Iga tolerants on rangelt kontrollitud. Iga detail on kontrollitud. Arvjuhtimise jõuga valmistame iga kvalifitseeritud tooriku, mis hiljem teenindab kõige nõudlikumaid pooljuhtprotsesse.

1. Täpsus, mis võimaldab järgmise põlvkonna pooljuhte

Ettevõttes VeTek Semiconductor on CNC-mehaaniline töötlemine palju enamat kui tootmisetapp – see on meie tooteportfelli oluline alus. Alates kõrge puhtusastmega grafiitalustest kuni keerukate geomeetriateni – meie töötlemisvõimalused toetavad otseselt järgmiste toodete tootmist:

•CVD kaetud ränikarbiidiga (SiC).grafiidisusseptorid ja eelsoojendusrõngad

•CVD kattega tantaalkarbiidiga (TaC).ümbersuunamisrõngad, poolkuu osad ja planetaarsed sustseptorid

• Tahke SiCkomponendid ja teravustamisrõngad

• Kõrge puhtusastmega grafiidist termovälja osad SiC epitaksi, MOCVD ja kristallide kasvatamiseks

• Kohandatud pooljuhtprotsessi komponendid, mis ühilduvad suuremate platvormidega (Aixtron, Veeco, LPE, ASM, Applied Materials)

Need komponendid nõuavad ülitihedaid mõõtmete tolerantse ja erakordset pinna terviklikkust. Meie CNC-töökoda tagab, et iga grafiiditoorik töödeldakse täpselt vastavalt spetsifikatsioonidele, enne kui see saab kõrge puhtusastmega CVD SiC või TaC katted – katted, mis saavutavad pidevalt alla 5 ppm lisandite taseme.

2. Meie konkurentsieelised

VeTek Semiconductorit eristab meie täielikult integreeritud tootmisahel ja sügav tehniline teadmine:

Ühekordne võimalus: CNC täppistöötlus → kõrgtemperatuuriline puhastamine → CVD SiC/TaC katmine → puhastamine → range testimine (GDMS, SIMS, SEM).

Täiustatud varustus ja võimsus:12+ ülitäpset tootmisliini ning kaks uurimis- ja arenduskeskust, mille asutas endine Hiina Teaduste Akadeemia ekspert.

Ülikõrge puhtus ja töökindlus:Katted ja materjalid, mis on loodud äärmuslike temperatuuride, söövitavate keskkondade ja osakesteta saastumise jaoks epitaksia ja MOCVD protsessides.

Täielik kohandamine:Me töötleme ja katame komponente teie täpsete jooniste põhjal, tagades täiusliku sobivuse teie reaktoriplatvormidele.

Tõestatud kvaliteedisüsteem: ISO 9001 sertifitseeritud protsessid koos range mõõtmete ja puhtuse kontrolliga igas etapis.

3. Tühjast missioonikriitilise komponendini

Iga suure jõudlusega SiC-kattega sustseptor või TaC-kattega rõngas saab alguse siit – meie CNC-täppistöötluse töökojast. Külm grafiidist toorik kujundatakse hoolikalt täiustatud arvjuhtimise juhtimisel, seejärel muudetakse see puhastamise ja katmise teel komponendiks, mis peab vastu tuhandeid protsessitsükleid maailma kõige arenenumates pooljuhttoodetes.

VeTek Semiconductoris usume, et tõeline täpsus algab ammu enne katmiskambrit. See algab esimesest lõikest.

Tutvuge meie täieliku valikugaCVD SiC katted, CVD TaC katted, tahke SiC, ja kõrge puhtusastmega grafiidilahused aadressilVETEK.

Võtke meiega ühendust juba täna, et arutada kohandatud töötlus- ja katmislahendusi teie epitaksi-, MOCVD- või kristallide kasvatamise rakenduste jaoks.