Veebi menüü

Tooteotsing

Keel

Tooted

Tantaalkarbiidi kate

VeTek semiconductor on pooljuhtide tööstusele mõeldud tantaalkarbiidkattematerjalide juhtiv tootja. Meie peamised tootepakkumised hõlmavad CVD-tantaalkarbiidkatte osi, paagutatud TaC-katte osi ränikarbiidi kristallide kasvatamiseks või pooljuhtide epitaksiprotsessiks. Läbinud ISO9001, VeTek Semiconductor kontrollib hästi kvaliteeti. VeTek Semiconductor on pühendunud tantaalkarbiidkatte tööstuse uuendajaks pideva iteratiivsete tehnoloogiate uurimise ja arendamise kaudu.


Peamised tooted onTaC-kattega juhtrõngas, CVD TaC-kattega kolme kroonlehega juhtrõngas, Tantaalkarbiidiga kaetud poolkuu, CVD TaC kattega planetaarne SiC epitaksiaalne sustseptor, Tantaalkarbiidist katterõngas, Tantaalkarbiidiga kaetud poorne grafiit, TaC katte pöörlemissusseptor, Tantaalkarbiidist rõngas, TaC katte pöörlemisplaat, TaC-ga kaetud vahvli sustseptor, TaC-kattega deflektorirõngas, CVD TaC kate, TaC-kattega padrunjne, puhtus on alla 5 ppm, võib vastata klientide nõudmistele.


TaC-katte grafiit saadakse kõrge puhtusastmega grafiidist substraadi pinna katmisel peene tantaalkarbiidi kihiga patenteeritud keemilise aurustamise-sadestamise (CVD) protsessi abil. Eelis on näidatud alloleval pildil:


Excellent properties of TaC coating graphite


Tantaalkarbiidi (TaC) kate on pälvinud tähelepanu tänu oma kõrgele sulamistemperatuurile (kuni 3880 °C), suurepärasele mehaanilisele tugevusele, kõvadusele ja vastupidavusele termilisele šokkidele, muutes selle atraktiivseks alternatiiviks kõrgemate temperatuurinõuetega liitpooljuhtide epitaksiprotsessidele. nagu Aixtron MOCVD süsteem ja LPE SiC epitaksimisprotsess. Samuti on sellel laialdane rakendus PVT meetodil SiC kristallide kasvuprotsessis.


Põhifunktsioonid:

 ●Temperatuuri stabiilsus

 ●Ultra kõrge puhtusastmega

 ●Vastupidavus H2, NH3, SiH4, Si suhtes

 ●Vastupidavus termilisele materjalile

 ●Tugev nake grafiidiga

 ●Konformne kattekiht

 ● Suurus kuni 750 mm läbimõõduga (ainus Hiina tootja jõuab selle suuruseni)


Rakendused:

 ●Vahvlikandja

 ● Induktiivne küttesusseptor

 ● Resistiivne kütteelement

 ●Satelliidi ketas

 ●Dušipea

 ●Juhtrõngas

 ●LED Epi vastuvõtja

 ●Sissepritse otsik

 ●Maskeeriv rõngas

 ● Kuumakaitse


Tantaalkarbiidi (TaC) kate mikroskoopilisel ristlõikel:


the microscopic cross-section of Tantalum carbide (TaC) coating


VeTeki pooljuht-tantaalkarbiidkatte parameeter:

TaC katte füüsikalised omadused
Tihedus 14,3 (g/cm³)
Eriemissioon 0.3
Soojuspaisumise koefitsient 6.3 10-6/K
Kõvadus (HK) 2000 HK
Vastupidavus 1 × 10-5Ohm*cm
Termiline stabiilsus <2500 ℃
Grafiidi suurus muutub -10-20 um
Katte paksus ≥20um tüüpiline väärtus (35um±10um)


TaC katte EDX andmed：

EDX data of TaC coating


TaC katte kristallstruktuuri andmed:

Element Aatomiprotsent
Pt. 1 Pt. 2 Pt. 3 Keskmine
C K 52.10 57.41 52.37 53.96
M 47.90 42.59 47.63 46.04


View as  
 
Poorne grafiit, mille TAC on kaetud

Poorne grafiit, mille TAC on kaetud

TAC -kaetud poorne grafiit on täiustatud pooljuhtide töötlemismaterjal, mida pakub Vetek Semiconductor. TAC -kattega poorne grafiit ühendab poorse grafiidi ja tantaalkarbiidi (TAC) katte eelised, hea soojusjuhtivuse ja gaasi läbilaskvusega. Vetek Semiconductor on pühendunud kvaliteetsete toodete pakkumisele konkurentsivõimeliste hindadega.
Vaata rohkem >> Saada päring >>
Tantaalkarbiidkatte kate

Tantaalkarbiidkatte kate

Tantalumi karbiidkattekate koosneb suure puhtusega grafiidist ja TAC-kattest. Vetek Semiconductor on Hiinas juhtiv Tantalumi karbiidikatete katte tarnija ja tootja. Keskendume kõrgtupust, kõrge temperatuuriga vastupidavate tantaalkarbiiditoodete pakkumisele. Meie tantaalkarbiidkattega kattel on suurepärane jõudlus ja töökindlus ning see võib materjale tõhusalt kaitsta äärmiselt kõrgel temperatuuril ja söövitavas keskkonnas. Ootame huviga teie pikaajaliseks partneriks Hiinas. Tere tulemast igal ajal konsulteerima.
Vaata rohkem >> Saada päring >>
TAC -kaetud deflektorirõngas

TAC -kaetud deflektorirõngas

Vetek Semiconductori TAC -i kaetud deflektorirõngas on väga spetsiaalne komponent, mis on mõeldud SIC kristallide kasvuprotsesside jaoks. TAC -kate tagab suurepärase kõrge temperatuuri vastupidavuse ja keemilise inertsuse, et toime tulla kõrgete temperatuuride ja söövitava keskkonnaga kristallide kasvu ajal. See tagab komponendi stabiilse jõudluse ja pika eluea, vähendades asendamise ja seisaku sagedust. Oleme pühendunud kvaliteetsete toodete pakkumisele konkurentsivõimeliste hindadega ja loodame olla Hiinas pikaajaline partner.
Vaata rohkem >> Saada päring >>
Tantaalkarbiidkattega toru kristallide kasvu jaoks

Tantaalkarbiidkattega toru kristallide kasvu jaoks

Kristallide kasvu jaoks mõeldud tantaalkarbiidkattega toru kasutatakse peamiselt SIC kristallide kasvuprotsessis. Vetek Semiconductor on aastaid tarninud tantaalkarbiidkattega toru ja töötanud TAC -i katte valdkonnas aastaid. Meie toodetel on kõrge puhtus ja kõrge temperatuurikindlus. Ootame huviga teie pikaajaliseks partneriks Hiinas. Uurige meid julgelt.
Vaata rohkem >> Saada päring >>
TaC-ga kaetud rõngas SiC epitaksiaalreaktori jaoks

TaC-ga kaetud rõngas SiC epitaksiaalreaktori jaoks

Vetek Semiconductor on Hiinas SIC epitaksiaalse reaktori TAC-i kaetud rõnga juhtiv tootja ja tehnoloogia uuendaja, keskendudes SIC epitaksiaalsete reaktorite jaoks suure jõudlusega lahenduste pakkumisele. Meil on TAC -i kattetehnoloogia alal palju aastaid kogemusi. TAC-i kaetud rõngal on kõrge puhtus, kõrge stabiilsus, suurepärane korrosioonikindlus jne ning see võib pakkuda epitaksiaalsete reaktorite karmi töökeskkonnas pikaajalist stabiilset jõudlust. Ootame teiega pikaajalise strateegilise partnerluse loomist.
Vaata rohkem >> Saada päring >>
Tantaalkarbiidiga kaetud poolkuu osa LPE jaoks

Tantaalkarbiidiga kaetud poolkuu osa LPE jaoks

VeTek Semiconductor on Hiinas LPE jaoks mõeldud tantaalkarbiidiga kaetud poolkuuosa juhtiv tarnija, kes on aastaid keskendunud TaC-katte tehnoloogiale. Meie tantaalkarbiidiga kaetud poolkuu osa LPE jaoks on mõeldud vedelfaasi epitakseerimisprotsessi jaoks ja talub kõrget temperatuuri üle 2000 kraadi Celsiuse järgi. Tänu suurepärasele materjali jõudlusele ja protsessi uuendustele on meie toote eluiga selles valdkonnas juhtival tasemel. VeTek Semiconductor ootab teie pikaajalist partnerit Hiinas.
Vaata rohkem >> Saada päring >>
Hiinas professionaalse Tantaalkarbiidi kate tootja ja tarnijana on meil oma tehas. Ükskõik, kas vajate oma piirkonna konkreetsete vajaduste rahuldamiseks kohandatud teenuseid või soovite Hiinas valmistatud täiustatud ja vastupidavat Tantaalkarbiidi kate osta, võite jätta meile sõnumi.
Uudiste soovitused
ALD aatomkihtsadestamise retsept
ALD aatomkihtsadestamise retseptVaata rohkem >>
Tere tulemast klientidele, kes külastavad Veteksemiconi SIC -katte/ TAC -katte- ja epitaxy protsessitehast
Tere tulemast klientidele, kes külastavad Veteksemiconi SIC -katte/ TAC -katte- ja epitaxy protsessitehastVaata rohkem >>
Mis vahe on epitaxy ja AL -i vahel?
Mis vahe on epitaxy ja AL -i vahel?Vaata rohkem >>
Miks on sic -kattekiht SIC -epitaksiaalse kasvu võtme põhimaterjal?
Miks on sic -kattekiht SIC -epitaksiaalse kasvu võtme põhimaterjal?Vaata rohkem >>
Teemant - pooljuhtide tulevane täht
Teemant - pooljuhtide tulevane tähtVaata rohkem >>
3D-printimise tehnoloogia uurimuslik rakendamine pooljuhtide tööstuses
3D-printimise tehnoloogia uurimuslik rakendamine pooljuhtide tööstusesVaata rohkem >>
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept