QR kood
Tooted
Võta meiega ühendust


Faks
+86-579-87223657


Aadress
Wangda Road, Ziyang Street, Wuyi maakond, Jinhua linn, Zhejiangi provints, Hiina
Poorne grafiiton konstrueeritud süsinikmaterjal, mille grafiitstruktuuri sees on pooride võrgustik. Selle põhiomaduste hulka kuuluvad poorsus, pooride suuruse jaotus, läbilaskvus, puistetihedus ja termilised omadused. Pooljuhtide tootmisel kasutatakse valitud kõrge puhtusastmega poorseid grafiidikomponente ränikarbiidi (SiC) füüsikalise aurutranspordi (PVT) kristallide kasvatamise süsteemides, et toetada konkreetseid gaasitranspordi ja soojusvälja funktsioone. Materjali jõudlus sõltub grafiidi klassist, pooride struktuurist, puhtusest ja töötingimustest.
Grafiidi poorne struktuur
Poorne grafiit on poorse struktuuriga toode, mis on valmistatud alusmaterjalina grafiidist. Selle materjal on valmistatud kõrge puhtusastmega grafiidist. VeTek Semiconductor Porous Graphite füüsikalised parameetrid varieeruvad olenevalt tootmisprotsessist ja konkreetsest rakendusest. Järgmised on tavalised füüsilised parameetrid:
Tüüpilised füüsikalised omadusedpoorne grafiit
ltem
Parameeter
Puistetihedus
0,89 g/cm3
Survetugevus
8,27 MPa
Painde tugevus
8,27 MPa
Tõmbetugevus
1,72 MPa
Spetsiifiline takistus
130Ω-inX10-5
Poorsus
50%
Keskmine pooride suurus
70 um
Soojusjuhtivus
12W/M*K
Poorne grafiit on valmistatud kõrge puhtusastmega grafiidist ja sellel on suurepärane elektrijuhtivus, soojusjuhtivus, kõrge temperatuuritaluvus, oksüdatsioonikindlus, keemiline stabiilsus ja muud omadused. Seda kasutatakse laialdaselt pooljuhtide töötlevas tööstuses.
Pooljuhtide töötlemise protsessis kasutatakse poorset grafiiti laialdaselt järgmistes aspektides:
Koos poorse grafiidi suurepärase kõrge temperatuuritaluvuse ja keemilise stabiilsusega, nagu hea korrosioonikindlus enamiku kemikaalide, nagu happed, leelised ja lahustid, suhtes kasutatakse poorset grafiiti sageli kõrgtemperatuurilistes paagutamis- ja kuumtöötlusseadmetes. Näiteks võib poorset grafiiti kasutada kõrgtemperatuuriliste ahjude vooderduse, isolatsioonimaterjali või tugimaterjalina.
Lisaks
SiC kristallide kasvu poorne grafiidikomponenton suurepärase elektrijuhtivuse ja termilise stabiilsusega, et tagada ühtlane soojusväli ja stabiilsed elektrilised omadused. Seetõttu kasutatakse seda toodet sageli pooljuhtide töötlemise difusiooni- või oksüdatsiooniprotsessis difusiooniallika või elektroodi materjalina.
Poorne grafiidi poorne struktuur võib filtreerida ja puhastada pooljuhtide töötlemisel kasutatavaid gaase, vähendada võimalikku osakeste saastumist ja tagada töötlemise ajal kõrge puhtus. Selle poorse struktuuri ja hea õhu läbilaskvusega saab poorse grafiidi osi kasutada ka vaakum-adsorptsioonisüsteemi alusena ja kinnitusena, et kinnitada vahvleid või muid komponente tõhusa vaakum-adsorptsiooni abil.
Reguleerides grafiidi paagutamisprotsessi, saab VeTek Semiconductorkohandage erineva pooride suuruse ja poorsusega poorseid grafiitmaterjale, et need vastaksid erinevatele rakendusnõuetele.
Poorne grafiit SiC Crystal Growth poorne grafiit Kolme kroonlehega grafiittiigel
Tegelikult on VeTek Semiconductoril absoluutne turuliider Hiina sic-kattega grafiidisusseptorite turul, tac-kattega grafiittiiglite turul ja ränikarbiidiga kaetud grafiitplaatide turul. VeTek Semiconductor on professionaalne Hiina tootja, tarnija, spetsiaalsete grafiittoodete tehas, näiteksSiC Crystal Growth poorne grafiit, Pürolüütiline süsinikkate, Klaasjas süsinikkate, Isotroopne grafiit, Silikoonitud grafiitjaKõrge puhtusastmega grafiitleht. oleme pühendunud täiustatud lahenduste pakkumisele erinevatele spetsiaalsetele grafiittoodetele pooljuhtide tööstusele.
Kui teil on küsimusi või vajate lisateavet, võtke meiega ühendust.
Mob/WhatsAPP: +86-180 6922 0752
E-post: anny@veteksemi.com
+86-579-87223657
Wangda Road, Ziyang Street, Wuyi maakond, Jinhua linn, Zhejiangi provints, Hiina
Autoriõigus © 2024 WuYi TianYao uus materjal Tech.Co.,Ltd. Kõik õigused kaitstud.
Links | Sitemap | RSS | XML | Privaatsuspoliitika |