Tooted

Ränikarbiidi epitaksiaalse kasvu põhiprotsessis mõistab Veteksemicon, et sustseptori jõudlus määrab otseselt epitaksiaalse kihi kvaliteedi ja tootmise efektiivsuse. Meie kõrge puhtusastmega EPI-sustseptorid, mis on loodud spetsiaalselt ränikarbiidi välja jaoks, kasutavad spetsiaalset grafiidist substraati ja tihedat CVD SiC katet. Oma suurepärase termilise stabiilsuse, suurepärase korrosioonikindluse ja äärmiselt madala osakeste tekkekiirusega tagavad need klientidele võrratu paksuse ja dopingu ühtluse isegi karmides kõrge temperatuuriga protsessikeskkondades. Veteksemiconi valimine tähendab oma täiustatud pooljuhtide tootmisprotsesside usaldusväärsuse ja jõudluse nurgakivi valimist.

ASM-i jaoks mõeldud Veteksemicon SiC-ga kaetud grafiidisusseptor on pooljuhtide epitaksiaalsete protsesside põhikandjakomponent. See toode kasutab meie patenteeritud pürolüütilise ränikarbiidi katmise tehnoloogiat ja täppistöötlusprotsesse, et tagada suurepärane jõudlus ja ülipikk eluiga kõrgel temperatuuril ja korrodeerivates protsessikeskkondades. Mõistame põhjalikult epitaksiaalsete protsesside rangeid nõudeid substraadi puhtuse, termilise stabiilsuse ja järjepidevuse osas ning oleme pühendunud pakkuma klientidele stabiilseid ja usaldusväärseid lahendusi, mis parandavad seadmete üldist jõudlust.

Veteksemicon pooljuht-kvaliteediga kvartstiiglid on Czochralski monokristallide kasvuprotsessi peamised tarbekaubad. Meie põhirõhk on äärmise puhtuse ja suurepärase termilise stabiilsusega ning oleme pühendunud pakkuma klientidele kvaliteetseid tooteid, millel on stabiilne jõudlus ja suurepärane vastupidavus kristalliseerumisele kõrgel temperatuuril ja kõrge rõhu all. See tagab allikast pärinevate kristallvarraste kvaliteedi, aidates pooljuht-räniplaatide valmistamisel saavutada suuremat saagist ja paremat kuluefektiivsust.

Veteksemicon fookusrõngas on loodud spetsiaalselt nõudlikele pooljuhtide söövitusseadmetele, eriti SiC söövitusrakendustele. Paigaldatud elektrostaatilise padruni (ESC) ümber, vahvli vahetusse lähedusse, on selle esmane ülesanne optimeerida elektromagnetvälja jaotust reaktsioonikambris, tagades ühtlase ja fokuseeritud plasma toime kogu vahvli pinnal. Suure jõudlusega fookusrõngas parandab märkimisväärselt söövituskiiruse ühtlust ja vähendab servaefekte, suurendades otseselt toote saagikust ja tootmise efektiivsust.

Veteksemicon ränikarbiidi kandeplaat LED-söövitamiseks, mis on spetsiaalselt loodud LED-kiibi tootmiseks, on söövitusprotsessis kuluv tuum. Valmistatud täppispaagutatud kõrge puhtusastmega ränikarbiidist, pakub see erakordset keemilist vastupidavust ja mõõtmete stabiilsust kõrgel temperatuuril, olles tõhusalt vastupidav tugevate hapete, aluste ja plasma korrosioonile. Selle vähesed saasteomadused tagavad LED-epitaksiaalplaatide kõrge saagikuse, samas kui selle vastupidavus, mis ületab tunduvalt traditsiooniliste materjalide oma, aitab klientidel vähendada üldisi tegevuskulusid, muutes selle usaldusväärseks valikuks söövitusprotsessi tõhususe ja järjepidevuse parandamiseks.

Veteksemicon PECVD jaoks mõeldud grafiitpaat on täppistöödeldud kõrge puhtusastmega grafiidist ja loodud spetsiaalselt plasmaga täiustatud keemilise aurustamise-sadestamise protsesside jaoks. Kasutades ära oma sügavaid teadmisi pooljuhtide soojusvälja materjalidest ja täppistöötluse võimalusi, pakume grafiitpaate, millel on erakordne termiline stabiilsus, suurepärane juhtivus ja pikk kasutusiga. Need paadid on loodud tagama väga ühtlase õhukese kile sadestumise igale vahvlile nõudlikus PECVD protsessikeskkonnas, parandades protsessi saagist ja tootlikkust.