Kõrge puhtusega kvarts tricible

Veteksemiconi platvormi pakutav kõrge puhtuse kvartskvarts on valmistatud ülikõrge puhtuse sünteetilisest sulatatud kvartsist. Valitud kvartsi tooraine SiO2 sisu võib tavaliselt ulatuda 99,998% -ni või veelgi kõrgemale (4N8). Täiustatud sulamis- ja vormimisprotsesside kaudu on lisandite sisaldus minimeeritud, eriti metalliioonid (näiteks Na, K, Li, Fe, Al, CA jne) ja hüdroksüülsisaldus, mis on kahjulikud pooljuhtide protsessidele.

See kvartsiseadmega on loodud tööks kõrge temperatuuriga keskkonnas, et tagada madal saastumine, kõrge tugevus ja hea ühilduvus kristallide kasvu ja vahvli töötlemisega.

Ⅰ. Peamised rakendused pooljuhtide tootmisprotsessides

Kõrgpuhustusega kvartsiseadmed mängivad olulist rolli paljudes peamistes pooljuhtide tootmisprotsessides koos nende ainulaadsete füüsiliste omadustega:

1. ühe kristalli räni kasv (Czochralski protsess - CZ)

Kasutamine: Üksikute kristallide räni kasvu protsessis Czochralski meetodil on sulatunnistuse peamised konteinerid suure puistuga kvarts. Ränivarraste kvaliteeti ja puhtust mõjutab otseselt tiiglimaterjal.

Suurepärased füüsilised omadused:

● Ülimalt kõrge puhtus: valmistatud kõrge puhtusastmega kvartsmaterjalist, see tagab äärmiselt madala lisandite sadestumise ja väldib üksikute kristallide räni saastumist, mis on ülioluline väga integreeritud ja suure jõudlusega pooljuhtide seadmete tootmisel. Sellised lisandid nagu leelisemetallid ja raskemetallid võivad muutuda kandepüünisteks või hajumiskeskuseks, mis mõjutab tõsiselt seadme elektrilisi omadusi.

● Suurepärane kõrge temperatuuriga vastupidavus: kvartsimaterjal on kõrge sulamistemperatuur (umbes 1700 ∘C), see talub sula räni äärmiselt kõrget temperatuuri (umbes 1420 ∘C) ja töötab pikka aega stabiilselt ilma deformatsiooni või pehmenemiseta.

● Hea termiline stabiilsus: kõrgetel temperatuuridel on soojuspaisumistegur äärmiselt madal, mis võib soojuspingele tõhusalt vastu seista ja vältida pragunemist kuumutamise ja jahutamise ajal, tagades sellega protsessi stabiilsuse ja ohutuse.

● Keemiline inerts: sellel on hea keemiline inerts sulaks räni, seda pole kerge reageerida räniga, vähendab räni lisandite kasutuselevõttu ja räni karboniseerimist ning tagab räni kristallide puhtuse.

2. Polükristalliline räni valuvalu valamine

Rakendus: Polükristallilises ränivalu valamise protsessis kasutatakse sulapolükristallilise räni konteineritena suure puiduga kvartsikvartseid, et valada fotogalvaanilisi või elektroonilisi polükristallilisi räni valuplokeid.

Suurepärased füüsilised omadused:

● Termiline löögikindlus: see võib säilitada konstruktsiooni terviklikkuse isegi kiiretes kuumutamis- ja jahutustsüklites, et vältida temperatuuri järskude muutustest põhjustatud pragunemist.

● Mõõtmeline stabiilsus: täpne mõõtmete juhtimine ja kuju stabiilsus on hädavajalikud polükristalliliste räni valuplokkide valamiseks, mis vastavad spetsifikatsiooninõuetele.

3. Muud kõrgtemperatuurilised rakendused

Kasutus: Pooljuhtide tootmisel kasutavad paljud kõrgtemperatuurilised ahjutorude protsessid, nagu difusioon, oksüdeerimine, lõõmutamine jne, sageli kvartsmahuteid vooderdistena või kandjatena, et hoida protsessikeskkond puhtana ja stabiilsena.

Ⅱ. Veteksemiconi kõrge puhtusega kvartsi tricible eelised

Veteksemicon on pühendunud kõrgekvaliteediliste ja kõrge jõudlusega toodete pakkumisele pooljuhtide tööstusele. Meie kõrge puhtusarjaga kvartskülastustel on järgmised eelised:

● Ülikõrge puhtuse garantii: Toorainete ja tootmisprotsesside range kontroll, et tagada toode pooljuhtide üliõpilase puhtuseni ja minimeerida protsessi saastumise riski.

● Suurepärane vastupidavus: Suurepärane termiline stabiilsus ja mehaaniline tugevus, pikendades toote eluiga ja vähendades tootmiskulusid.

● Kohandatud teenus: Erineva suuruse, kuju ja spetsifikatsioonidega kohandatud tiiglilahendused saab pakkuda vastavalt teie konkreetsetele protsessivajadustele.

Veteksemiconi toodete ladu