Kvartsgaasi jaotusplaat

Kvartsi gaasijaotusplaadid, mida tuntakse ka kui kvartside duššad, on pooljuhtide valmistamisel kriitilised komponendid. Kasutades erakordset puhtust, kõrge temperatuuriga vastupidavust ja kvartsi korrosioonikindlust, tagavad need taldrikud vahvli pinnale ühtlase ja stabiilse protsessigaaside voolavuse. See täpne kohaletoimetamine on oluline deponeeritud filmide või söövitatud tunnuste kvaliteedi ja ühtluse säilitamiseks.

Kõrge puhtusarja sulatatud kvartsi põhifunktsioonid

● materiaalne: 99,99%kõrge puhtusastmega sulatatud kvarts

● Kõrge temperatuuri takistus: Talub temperatuuri üle 1000 ℃

● korrosioonikindlus: Suurepärane vastupidavus protsessigaaside ja plasmakeskkonna vastu

● Täpne gaasivoog: Ühtne mikroava jaotus optimaalseks gaasi kohaletoimetamiseks ja sadestumise ühtlus

● Kohandatav disain: Suuruse, aukude mustrit ja kinnitusomadusi saab kohandada konkreetsete seadmemudelite jaoks

Põhirollid pooljuhtide tootmisel

1. füüsikalise auru ladestumine (PVD) ja keemiline aurude sadestumine (CVD)

Roll: PVD- ja CVD -protsessides suunab gaasi jaotusplaat täpselt reaktiivseid gaase (nt silaan, ammoniaak, hapnik) või eelkäijad vahvlile, moodustades soovitud õhukese kile.

Konkreetsed kasutusalad:

● Ühtsuse kontrolli: plaadi täpselt konstrueeritud mikroaugud tagavad, et gaasi vool ja kontsentratsioon on ühtlane kogu vahvli pinnal. See on ülioluline järjepideva paksuse ja jõudlusega filmide deponeerimiseks.

● Saastumise ennetamine: kvartsi suur puhtus takistab plaadi reageerimist protsessigaaside või lisandite vabastamisega. See säilitab filmi puhtuse ja hoiab ära vahvli pinna puudused.

2. plasma täiustatud keemiline aurude ladestumine (PECVD)

Roll: PECVD -s ei tarnita kvartsi duššad mitte ainult reaktiivseid gaase, vaid toimib ka plasma genereerimiseks elektroodina.

Konkreetsed kasutusalad:

● Plasma süüde: Dušhead on tavaliselt ühendatud raadiosageduse (RF) toiteallikaga plasma genereerimiseks. Plasma suure energiatarbega osakesed soodustavad gaasiliste reagentide lagunemist, võimaldades kile ladestumist madalamatel temperatuuridel.

● Termiline stabiilsus: kvartsil on suurepärane termiline stabiilsus, võimaldades sellel taluda kõrge temperatuuriga plasmakeskkonda. See aitab säilitada ühtlase temperatuuri protsessikambris, tagades veelgi kilede kvaliteedi ja järjepidevuse.

3. kuiv söövitus

Roll: Kuiv söövituses toob gaasijaotusplaat Etchi kambrisse reaktiivseid söövitusgaase (nt fluorokarbonid, kloor).

Konkreetsed kasutusalad:

● Söövitus ühtlus: plaat tagab söövitusgaaside ühtlase voolu ja kontsentratsiooni, mis tagab kogu vahvli järjepideva söövitussügavuse ja profiili. See on ülioluline täiustatud pooljuhtide seadmete jaoks vajalike täpsete mustrite saavutamiseks.

● Korrosioonikindlus: söövitavate gaaside tugevad söövitavad omadused nõuavad vastupidavat materjali. Quartzi kõrge korrosioonikindlus laiendab dušši eluiga ja vähendab protsessi katkestuste riski.

4. vahvli puhastamine

Roll: Konkreetsetes vahvlite puhastusprotsessides kasutatakse puhastusgaaside (nt osooni, ammoniaagi) tarnimiseks vahvli pinnale kvartgaasi jaotusplaati, et eemaldada jäägid või saasteained.

Konkreetsed kasutusalad:

● Järjepidev puhastamine: plaat tagab, et gaaside puhastamine ulatub vahvli igasse osa, võimaldades põhjalikku ja ühtlast puhastusprotsessi.

● Keemiline ühilduvus: kvartsi ühilduvus mitmesuguste puhastuskemikaalidega takistab reaktsioone ja säilitab puhastusprotsessi puhtuse ja tõhususe.