Tooted

Vetek Semiconductoris oleme spetsialiseerunud CVD SIC -katte ja CVD TAC -katte uurimisele, arendamisele ja industrialiseerimisele. Üks näidisprodukt on SIC -kattekatete sisemine segmentide sisemine, mis läbib ulatuslikku töötlemist, et saavutada ülitäpse ja tihedalt kaetud CVD SIC pinna. See kate näitab erakordset vastupidavust kõrgetele temperatuuridele ja pakub tugevat korrosioonikaitset. Kõigi järelepärimiste saamiseks võtke meiega ühendust.

Vtech Semiconductor on pühendunud Aixtroni reaktorite CVD SIC -i osade väljatöötamisele ja turustamisele. Näitena on meie SIC -kattekatete segmente hoolikalt töödeldud, et saada tihedat CVD SIC -katte, millel on suurepärane korrosioonikindlus, keemiline stabiilsus, tervitame arutama meiega rakendusstsenaariume.

MOCVD vastuvõtja iseloomustatakse planeedi kettaga ja epitaxy stabiilse jõudluse poolest. Vetek Semiconductoril on rikkalik kogemus selle toote töötlemise ja CVD sic -kattega, oodake meiega suhelda reaalsetest juhtumitest.

Vetek Semiconductor esitleb TAC -i kattekihi, millel on oma erakordse TAC -kattega, see vastuvõtja pakub paljusid eeliseid, mis eristavad seda tavapärastest lahendustest. Sujuvalt olemasolevatesse süsteemidesse integreerimine, Vetek Semiconductorite TAC -katte vastuvõtja ühilduvus ja tõhus töö. Selle usaldusväärne jõudlus ja kvaliteetne TAC-kate annavad järjekindlalt erakordseid tulemusi sic epitaxy protsessides. Oleme pühendunud kvaliteetsete toodete pakkumisele konkurentsivõimeliste hindadega ja loodame olla teie pikaajaline partner Hiinas.

Vetek Semiconductori toodetud TAC-kattekihi pöörlemisplaadil on silmapaistev TAC-kattekiht koos oma erakordse TAC-kattekihiga, TAC-kattekihi pöörlemisplaadil on märkimisväärne kõrge temperatuuriga vastupidavus ja keemiline inentus, mis eristab seda traditsioonilistest lahustest. Meil ​​on loodavad kvaliteetseid tooteid ja ootame oma pikaajalist partneriks ja loodame oma pikaajalisele partnerile.

Täpsusega kujundatud ja täiuslikkuseni konstrueeritud Vetek Semiconductori TAC -katteplaat on spetsiaalselt kohandatud erinevate rakenduste jaoks räni karbiidi (sic) üksikute kristallide kasvuprotsessides. TAC -katteplaadi täpsed mõõtmed ja tugev konstruktsioon võimaldavad olemasolevatesse süsteemidesse integreerida, tagades sujuva ühilduvuse ja tõhusa toimimise. Selle usaldusväärne jõudlus ja kvaliteetne kate aitavad SIC kristallide kasvu rakendustes järjekindlaid ja ühtseid tulemusi. Oleme pühendunud kvaliteetsete toodete pakkumisele konkurentsivõimeliste hindadega ja loodame olla teie pikaajaline partner Hiinas.