Tahke SiC gaasiga dušipea

Kindel sic -gaasi dušš pea

Vetek Semiconductor on integreeritud ettevõte, mis on pühendatud uurimistööle, tootmisele ja müügile. Vetek Semiconductor on aastaid töötanud pooljuhtide epitaksia, söövitamise ja muude protsessidega seotud toodete kallal, eriti CVD SIC-kattekihti, CVD TAC-kattekihti ja CVD Solid SIC on meie lipulaeva tooted.

Veteki pooljuhti tahket sic -gaasi dušši pea kasutatakse tavaliselt pooljuhtide CVD protsesside ajal eelkäija gaaside ühtlaseks jaotamiseks substraadi pinnale. CVD-SIC materjali kasutamine duššipeade jaoks pakub mitmeid eeliseid. Selle kõrge soojusjuhtivus aitab CVD -protsessis tekkivat soojust hajutada, tagades substraadil ühtlase temperatuuri jaotuse. Lisaks võimaldab CVD SIC Duššipea keemiline stabiilsus taluda söövitavaid gaase ja karmi keskkondi, mida CVD -protsessides tavaliselt ilmneb. 

CVD SIC -duššipeade disaini saab kohandada konkreetsetele CVD -süsteemidele ja protsessinõuetele. Tavaliselt koosnevad need plaadi- või kettaskujulisest komponendist, millel on seeria täppispuuritud aukude või pesade seeria. Aukude muster ja geomeetria on hoolikalt loodud selleks, et tagada gaasi ühtlane jaotus ja voolukiirus substraadi pinna kohal.

Tahke sic füüsikalised omadused