Veebi menüü

Tooteotsing

Keel

Tooted
PSS -söövitus kanduriplaat pooljuhtide jaoks
  • PSS -söövitus kanduriplaat pooljuhtide jaoksPSS -söövitus kanduriplaat pooljuhtide jaoks
  • PSS -söövitus kanduriplaat pooljuhtide jaoksPSS -söövitus kanduriplaat pooljuhtide jaoks

PSS -söövitus kanduriplaat pooljuhtide jaoks

Vetek Semiconductori PSS-i söövitusplaat pooljuhtide jaoks on kvaliteetne ultrapuur grafiidi kandja, mis on loodud vahvlite käitlemise protsesside jaoks. Meie kandjatel on suurepärane jõudlus ja nad saavad hästi toimida karmis keskkonnas, kõrgetel temperatuuridel ja karmidel keemiliste puhastustingimustega. Meie tooteid kasutatakse laialdaselt paljudel Euroopa ja Ameerika turgudel ning loodame saada Hiinas oma pikaajaliseks partneriks. Olete teretulnud tulema Hiinasse meie tehast külastama ja meie tehnoloogia ja toodete kohta rohkem tundma õppima.
Saada päring
Tootekirjeldus

Valdkonna juhtiva professionaalse tootjana pakub Vetek Semiconductor teile hea meelega tipptasemel PSS-i söövitusplaate, mis on kohandatud spetsiaalselt pooljuhtide tööstusele.


Meie pooljuhtide PSS -söövitusplaadid on väga spetsialiseerunud komponendid, mis on asendamatud plasmaallika spektroskoopia (PSS) söövitusprotseduurides pooljuhtide tootmise valdkonnas. Need taldrikud eeldavad söövitamisprotsessi ajal pöördelist rolli. Need pakuvad stabiilset tuge ja tagavad pooljuhtide vahvlite sujuva transpordi, mis on söövitusoperatsiooni täpsuse ja kvaliteedi jaoks ülioluline.


Kutsume teid soojalt üles pöörduma meie poole järelepärimiste saamiseks. Oleme alati valmis abistama ja andma üksikasjalikumat teavet meie silmapaistvate toodete kohta.




PSS -söövitus kanduriplaat pooljuhtide jaoksPeamised funktsioonid:

● Täpsusdisain: Kandesplaat on konstrueeritud täpsete mõõtmete ja pinna tasasusega, et tagada pooljuhtide vahvlite ühtlane ja ühtlane söövitus. See pakub vahvlitele stabiilset ja kontrollitud platvormi, võimaldades täpseid ja usaldusväärseid söövitustulemusi.

● Plasmaresistentsus: Kandesplaadil on suurepärane vastupidavus söövitusprotsessis kasutatud plasma suhtes. Reaktiivsed gaasid ja suure energiatarbega plasma ei mõjuta see, tagades pikaajalise kasutusaja ja järjepideva jõudluse.

● Soojusjuhtivus: Kandesplaadil on kõrge soojusjuhtivus, et tõhusalt hajutada söövitusprotsessi käigus tekkivat soojust. See aitab säilitada optimaalset temperatuuri kontrolli ja hoiab ära pooljuhtide vahvlite ülekuumenemise.

● Ühilduvus: PSS -söövitusplaat on konstrueeritud ühilduvaks erinevate tööstuses kasutatavate pooljuhtide vahvlite suurusega, tagades erinevatel tootmisprotsessidel mitmekülgsuse ja kasutusmugavuse.


PSS -söövitusplaadi tooteparameeter pooljuhtide jaoks

CVD sic -katte füüsikalised omadused
Omand Tüüpiline väärtus
Kristallstruktuur FCC β -faasi polükristalliline, peamiselt (111) orienteeritud
SIC kattetihedus 3,21 g/cm³
CVD sic katte kõvadus 2500 Vickersi kõvadus （500G koormus）
Tera suurus 2 ~ 10 μm
Keemiline puhtus 99,99995%
Soojusmaht 640 J · kg-1· K-1
Sublimatsioonitemperatuur 2700 ℃
Paindetugevus 415 MPA RT 4-punktiline
Youngi moodul 430 GPA 4pt Bend, 1300 ℃
Soojusjuhtivus 300W · M-1· K-1
Soojuspaisumine (CTE) 4,5 × 10-6K-1



See pooljuht PSS -söövitus kanduriplaat pooljuhtide jaoksTootmispood

SiC Graphite substrateCVD TaC coating cover testSilicon carbide ceramic processingEPI process equipment



Ülevaade pooljuhtkiibi epitaxy tööstusahelast:

SiC Epitaxy Si Epitaxy GaN Epitaxy

Seotud kategooria
Saada päring
Kontaktinfo
For inquiries about Silicon Carbide Coating, Tantalum Carbide Coating, Special Graphite or price list, please leave your email to us and we will be in touch within 24 hours.
NIMI WuYi TianYao uus materjal Tech.Co., Ltd.
LISA Wangda Road, Ziyang Street, Wuyi maakond, Jinhua linn, Zhejiangi provints, Hiina
TEL +86-579-87223657
FAX +86-579-87223657
Sera +86-15988690905
Tina +86-18069220752
E-post anny@veteksemi.com
VEEB www.veteksemicon.com
Seotud tooted
SIC kaetud ICP söövitus kandja
SIC kaetud ICP söövitus kandja Vaata rohkem >>
SIC ICP söövitusplaat
SIC ICP söövitusplaat Vaata rohkem >>
Sic-kaetud e-chuck
Sic-kaetud e-chuck Vaata rohkem >>
Plasma söövitusfookusrõngas
Plasma söövitusfookusrõngas Vaata rohkem >>
SIC kaetud vahvli kandja söövitamiseks
SIC kaetud vahvli kandja söövitamiseks Vaata rohkem >>
Ränikarbiidi kandeplaat LED-söövitamiseks
Ränikarbiidi kandeplaat LED-söövitamiseks Vaata rohkem >>
Uudiste soovitused
Kui õhuke saab Taiko protsessi räni vahvleid teha?
Kui õhuke saab Taiko protsessi räni vahvleid teha?Vaata rohkem >>
Kvartsiseadmed päikeseelementide tootmisel
Kvartsiseadmed päikeseelementide tootmiselVaata rohkem >>
CVD -tehnoloogia uuendus Nobeli auhinna taga
CVD -tehnoloogia uuendus Nobeli auhinna tagaVaata rohkem >>
Mis vahe on MBE ja MOCVD tehnoloogiate vahel?
Mis vahe on MBE ja MOCVD tehnoloogiate vahel?Vaata rohkem >>
Kui palju teate CVD SIC -i kohta? - Veteki pooljuht
Kui palju teate CVD SIC -i kohta? - Veteki pooljuhtVaata rohkem >>
Miks on tantaalkarbiidi (TaC) kate parem kui ränikarbiidi (SiC) kate SiC monokristallide kasvatamisel? - VeTeki pooljuht
Miks on tantaalkarbiidi (TaC) kate parem kui ränikarbiidi (SiC) kate SiC monokristallide kasvatamisel? - VeTeki pooljuhtVaata rohkem >>
X
Kasutame küpsiseid, et pakkuda teile paremat sirvimiskogemust, analüüsida saidi liiklust ja isikupärastada sisu. Seda saiti kasutades nõustute meie küpsiste kasutamisega. Privaatsuspoliitika
KeelduNõustu