Veebi menüü

Tooteotsing

Keel

Tooted
PSS -söövitus kanduriplaat pooljuhtide jaoks
  • PSS -söövitus kanduriplaat pooljuhtide jaoksPSS -söövitus kanduriplaat pooljuhtide jaoks
  • PSS -söövitus kanduriplaat pooljuhtide jaoksPSS -söövitus kanduriplaat pooljuhtide jaoks

PSS -söövitus kanduriplaat pooljuhtide jaoks

Vetek Semiconductori PSS-i söövitusplaat pooljuhtide jaoks on kvaliteetne ultrapuur grafiidi kandja, mis on loodud vahvlite käitlemise protsesside jaoks. Meie kandjatel on suurepärane jõudlus ja nad saavad hästi toimida karmis keskkonnas, kõrgetel temperatuuridel ja karmidel keemiliste puhastustingimustega. Meie tooteid kasutatakse laialdaselt paljudel Euroopa ja Ameerika turgudel ning loodame saada Hiinas oma pikaajaliseks partneriks. Olete teretulnud tulema Hiinasse meie tehast külastama ja meie tehnoloogia ja toodete kohta rohkem tundma õppima.
Saada päring 
Tootekirjeldus

Valdkonna juhtiva professionaalse tootjana pakub Vetek Semiconductor teile hea meelega tipptasemel PSS-i söövitusplaate, mis on kohandatud spetsiaalselt pooljuhtide tööstusele.


Meie pooljuhtide PSS -söövitusplaadid on väga spetsialiseerunud komponendid, mis on asendamatud plasmaallika spektroskoopia (PSS) söövitusprotseduurides pooljuhtide tootmise valdkonnas. Need taldrikud eeldavad söövitamisprotsessi ajal pöördelist rolli. Need pakuvad stabiilset tuge ja tagavad pooljuhtide vahvlite sujuva transpordi, mis on söövitusoperatsiooni täpsuse ja kvaliteedi jaoks ülioluline.


Kutsume teid soojalt üles pöörduma meie poole järelepärimiste saamiseks. Oleme alati valmis abistama ja andma üksikasjalikumat teavet meie silmapaistvate toodete kohta.




PSS -söövitus kanduriplaat pooljuhtide jaoksPeamised funktsioonid:

● Täpsusdisain: Kandesplaat on konstrueeritud täpsete mõõtmete ja pinna tasasusega, et tagada pooljuhtide vahvlite ühtlane ja ühtlane söövitus. See pakub vahvlitele stabiilset ja kontrollitud platvormi, võimaldades täpseid ja usaldusväärseid söövitustulemusi.

● Plasmaresistentsus: Kandesplaadil on suurepärane vastupidavus söövitusprotsessis kasutatud plasma suhtes. Reaktiivsed gaasid ja suure energiatarbega plasma ei mõjuta see, tagades pikaajalise kasutusaja ja järjepideva jõudluse.

● Soojusjuhtivus: Kandesplaadil on kõrge soojusjuhtivus, et tõhusalt hajutada söövitusprotsessi käigus tekkivat soojust. See aitab säilitada optimaalset temperatuuri kontrolli ja hoiab ära pooljuhtide vahvlite ülekuumenemise.

● Ühilduvus: PSS -söövitusplaat on konstrueeritud ühilduvaks erinevate tööstuses kasutatavate pooljuhtide vahvlite suurusega, tagades erinevatel tootmisprotsessidel mitmekülgsuse ja kasutusmugavuse.


PSS -söövitusplaadi tooteparameeter pooljuhtide jaoks

CVD sic -katte füüsikalised omadused
Omand Tüüpiline väärtus
Kristallstruktuur FCC β -faasi polükristalliline, peamiselt (111) orienteeritud
SIC kattetihedus 3,21 g/cm³
CVD sic katte kõvadus 2500 Vickersi kõvadus （500G koormus）
Tera suurus 2 ~ 10 μm
Keemiline puhtus 99,99995%
Soojusmaht 640 J · kg-1· K-1
Sublimatsioonitemperatuur 2700 ℃
Paindetugevus 415 MPA RT 4-punktiline
Youngi moodul 430 GPA 4pt Bend, 1300 ℃
Soojusjuhtivus 300W · M-1· K-1
Soojuspaisumine (CTE) 4,5 × 10-6K-1



See pooljuht PSS -söövitus kanduriplaat pooljuhtide jaoksTootmispood

SiC Graphite substrateCVD TaC coating cover testSilicon carbide ceramic processingEPI process equipment



Ülevaade pooljuhtkiibi epitaxy tööstusahelast:

SiC Epitaxy Si Epitaxy GaN Epitaxy

Kuumad sildid: PSS -söövitus kanduriplaat pooljuhtide jaoks
Seotud kategooria
Saada päring
Kontaktinfo
Ränikarbiidkatte, tantaalkarbiidkatte, erigrafiidi või hinnakirja kohta päringute saamiseks jätke meile oma e-kiri ja me võtame ühendust 24 tunni jooksul.
Seotud tooted
SIC kaetud ICP söövitus kandja
SIC kaetud ICP söövitus kandja Vaata rohkem >>
SIC ICP söövitusplaat
SIC ICP söövitusplaat Vaata rohkem >>
Sic-kaetud e-chuck
Sic-kaetud e-chuck Vaata rohkem >>
Plasma söövitusfookusrõngas
Plasma söövitusfookusrõngas Vaata rohkem >>
SIC kaetud vahvli kandja söövitamiseks
SIC kaetud vahvli kandja söövitamiseks Vaata rohkem >>
Uudiste soovitused
Räni karbiidi keraamika rakendamine ja uurimist
Räni karbiidi keraamika rakendamine ja uurimistVaata rohkem >>
Kiibitootmine: aatomkihi ladestumine (ALD)
Kiibitootmine: aatomkihi ladestumine (ALD)Vaata rohkem >>
Mis on kuum pressitud sic -keraamika?
Mis on kuum pressitud sic -keraamika?Vaata rohkem >>
Räni karbiidi nanomaterjalid
Räni karbiidi nanomaterjalidVaata rohkem >>
Milline on ühekristalli ahju termilise välja temperatuurigradient?
Milline on ühekristalli ahju termilise välja temperatuurigradient?Vaata rohkem >>
Milline on epitaksiaalne protsess?
Milline on epitaksiaalne protsess?Vaata rohkem >>
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept