TAC -kattekihi pöörlemisplaat

Vetek Semiconductori TAC -kattekihi pöörlemisplaadil on kõrge puhtus, lisandite sisaldus on alla 5 ppm ning tihe ja ühtlane struktuur, mida kasutatakse laialdaselt LPE EPI süsteemides, Aixtron Systems, NUFlare Systems, NUFlare Systems, Tel CVD Systems, VEECO süsteemid, TSI Systems.

● Suurepärased mehaanilised omadused:

Katke kõvadus kuni 2300HV, suurepärase kulumiskindlusega.

Katte ja substraadi vaheline adhesioon on tugev ning seda pole lihtne maha kukkuda ega koorida.

Katmine võib endiselt kõrgel temperatuuril säilitada hea struktuurilise stabiilsuse.

●  Suurepärane korrosioonikindlus:

TAC -materjalil endal on suurepärane keemiline stabiilsus ja korrosioonikindlus.

Vetek Semiconductori katted toimivad hästi erinevates agressiivsetes gaasikeskkondades.

Suudab tõhusalt kaitsta seadmete sisemisi komponente korrosioonikahjustuste eest.

● Kõrge pinnaviimistlus:

Vetek Semiconductor kasutab soovitud viimistluse saamiseks täpset katteprotsessi.

Madal pinna karedus aitab vähendada osakeste kogunemist ja sadestumist.

● Katte järjepidevus on hea:

Vetek Semiconductoril on helikvaliteedi juhtimissüsteem, et tagada partiide vahel järjepidev jõudlus.

Katte paksus on ühtlaselt jaotunud ja ilmseid kohalikke puudusi pole.

● Suurepärane praktiline rakenduste jõudlus:

Vetek Semiconductori TAC-kattekihti kasutatakse laialdaselt paljudes tuntud epitaksiaalsete seadmete tootjates kodu- ja välismaal.

TAC -kaetud pöördeplaadi toote füüsikaline parameeter:

Tantaalkarbiidikate mikroskoopilisel ristlõikel