Tooted

Hiinas täiustatud SIC tihendiosade tootetootja ja tehasena. Vetek Semiconducto SIC tihendusosa on kõrgjõudlusega tihenduskomponent, mida kasutatakse laialdaselt pooljuhtide töötlemisel ja muudel äärmuslike kõrgete temperatuuride ja kõrgrõhuprotsesside korral. Tere tulemast oma edasist konsultatsiooni.

Vetek Semiconductor on Hiinas professionaalne alumiiniumoksiidi keraamiline vaakumtootja ja tehas. Alumiiniumoksiidi keraamiline vaakum Chuck kasutab suure puhtusega alumiiniumoksiidide keraamikat, millel on suurepärane soojuskindlus, keemiline vastupidavus ja mehaaniline tugevus. Seda kasutatakse peamiselt vahvlite ja substraatide kinnitamiseks ja toetamiseks. See on pooljuhtide töötlemiseks suure jõudlusega seadmed. Tere tulemast oma täiendavaid päringuid.

Professionaalse kõva komposiitkiuduga kiudainega toodete tootja ja tarnijana Hiinas on Vetek Semiconductor kõva komposiitkiust kiudaine vild kvaliteetne materjal, mis on mõeldud kõrgtemperatuuriliste rakenduste jaoks, pakkudes suurepärast soojustakistust ja isolatsiooni jõudlust. Seda toodet kasutatakse laialdaselt süsinikkomposiit PECVD kaubaaluses, et tagada ekstreemsetes tingimustes stabiilsus ja töökindlus. Tere tulemast oma edasist konsultatsiooni.

Hiinas asuva tantaalkarbiidkattega rõngatoodete professionaalse uuendaja ja juhina mängib Veteki pooljuhtide tantaalkarbiidkattega rõngas SIC kristallide kasvu asendamatut rolli koos suurepärase kõrge temperatuuriga vastupidavuse, kulumiskindluse ja suurepärase soojusjuhtivusega. Tere tulemast oma edasist konsultatsiooni.

Hiinas juhtiva räni karbiidi vahvli tootja tootja ja tarnijana mängib Vetek Semiconductori räni karbiidi vahvli Chuck asendamatut rolli epitaksiaalse kasvuprotsessis suurepärase kõrge temperatuuri, keemilise korrosiooniresistentsuse ja termilise löögikindlusega. Tere tulemast oma edasist konsultatsiooni.

Räni karbiidi dušš pea on suurepärane kõrge temperatuuriga tolerants, keemiline stabiilsus, soojusjuhtivus ja hea gaasi jaotuse jõudlus, mis võib saavutada gaasi ühtlase jaotuse ja parandada kilede kvaliteeti. Seetõttu kasutatakse seda tavaliselt kõrge temperatuuriga protsessides, näiteks keemiline aurude ladestumine (CVD) või füüsikalise aurude sadestumise (PVD) protsessid. Tervitage oma täiendavat konsultatsiooni meiega, Vetek Semiconductor.