CVD SiC-kattega grafiidisusseptor vahvlikandjale

1. Toote eelised

• Kõrge puhtusastmega materjal:Pooljuhtkvaliteediga grafiitmaterjal ja tihe SiC kattestruktuur minimeerivad saastumise riski ja parandavad CVD SiC-ga kaetud grafiidisusseptori töökindlust.
• Suurepärane termiline ühtlus:Optimeeritud grafiidi struktuur ja SiC kate tagavad stabiilse soojusülekande ja ühtlase vahvli temperatuuri reguleerimise.
• Suurepärane keemiline vastupidavus:Tihe SiC kate pakub tugevat vastupidavust protsessigaasidele ja söövitavale keskkonnale.
• Pikk kasutusiga:Kõrge kõvadus ja kulumiskindlus parandavad vastupidavust kõrgel temperatuuril epitaksi tingimustes.
• Madal osakeste teke:Tihe CVD SiC pind vähendab osakeste eraldumist ja parandab vahvliprotsessi töökindlust.
• Kohandatud disainivõimalus:Saadaval erinevates suurustes, struktuurides ja konfiguratsioonides vastavalt seadmenõuetele.

2. Tehnilised andmed

3. Rakendused

• SiC epitaksiprotsess:Grafiitsustseptorit kasutatakse SiC epitaksiseadmetes vahvlikandjana, mis toetab SiC substraate kõrgel temperatuuril epitaksiaalse kasvu ajal.
• Silicon Epitaxy protsess:Kasutatakse silikoonist epitaksiaalreaktorites vahvlite toetamiseks ja stabiilsete termiliste tingimuste säilitamiseks.
• MOCVD epitaksia:VETEKi grafiidisustseptorid sobivad MOCVD, LED-epitaksi, GaN-epitaksi, räni epitaksi ja muude pooljuhtide tootmisprotsesside jaoks, mis nõuavad suurepärast termilist ühtlust ja keemilist stabiilsust.
• Pooljuhtide tootmisseadmed:Ühildub erinevate epitaksiplatvormidega, sealhulgas LPE horisontaalahjud, Aixtron, NuFlare ja nendega seotud pooljuhtseadmed.

4. Miks valida VETEK?

VETEK pakub kohandatud CVD SiC-ga kaetud grafiidisusseptori lahendusi, mis integreerivad grafiidi puhastamise, täppistöötluse, CVD katmise ja kontrollimise võimalused. Meie pooljuhtkvaliteediga grafiidist sustseptortoodetel on kõrge puhtusaste, ühtlane kattekihi paksus, suurepärane termiline jõudlus ja pikk kasutusiga nõudlike vahvlikandjate rakenduste jaoks.