Vetek Semiconductor on saanud paljude MOCVD -seadmete tarbekaupade tarnijaks, kellel on kõrgemad töötlemisvõimalused. Aixtron G5+ laekomponent on üks meie uusimaid tooteid, mis on peaaegu sama kui Aixtroni algkomponendil ja on klientidelt saanud head tagasisidet. Kui vajate selliseid tooteid, pöörduge Vetek Semiconductori poole!
Galliumnitriid (GAN) on lai ribalaua pooljuhtmaterjal, millel on suurepärased füüsikalised omadused, näiteks kõrge elektronide liikuvus, kõrge jaotus elektrivälja ja kõrge küllastusega elektronide kiirus. Seda kasutatakse laialdaselt optoelektroonilistes seadmetes (näiteks valgust kiirgavad dioodid, laserdioodid) ja kõrgsagedusega suure võimsusega elektroonikaseadmetes (näiteks võimsusvõimendid). Räni (SI) on tavaliselt kasutatav pooljuhtide substraadimaterjal, mille eelised on madalad, suured suurused ja ühilduvus olemasolevate ränipõhiste integreeritud vooluahela protsessidega. Seetõttu on GAN -epitaksiaalsete kihtide kasvatamine SI -l väga väärtuslik uurimisteema. Aixtron G5+ seeria on praegu üks kuumimaid Si-põhisi GAN-i epitaksiaalseid kasvu seadmeid, millel on palju olulisi komponente, ja laekomponent on üks olulisi komponente.
Aixtron G5+ laekomponent on valmistatud SGL -i grafiidist. Peamine funktsioon on temperatuuri juhtimine ja vahvli madalaim soojusvoog.
●Temperatuuri ühtsuse kontroll:
Aixtron G5+ laekomponent aitab saavutada ühtlase temperatuurijaotuse kogu reaktsioonikambris. Pooljuhtide epitaksiaalse kasvuprotsessis on temperatuuri ühtlus kvaliteetsete epitaksiaalsete kihtide kasvatamiseks ülioluline. See tagab, et kõigi vahvlite või satelliitkomponentide jaoks on võimalik sama pinnatemperatuuri, tagades sellega epitaksiaalse materjali kasvukiiruse ja kvaliteedi järjepidevuse kõigis kohtades, parandades sellega protsessi saaki.
● Optimeerige kasvukeskkonda:
Reaktsioonikambri osana moodustab Aixtron G5+ laekomponent stabiilse kasvukeskkonna koos teiste komponentidega. See võib vähendada soojuskadumist ja muuta reaktsioonikambris temperatuuri stabiilsemaks, mis soodustab epitaksiaalse kasvu tingimuste ja epitaksiaalse kihi defektide ja temperatuuri kõikumistest põhjustatud ebaühtluse vähendamise täpset kontrolli.
Aixtron G5+ laekomponent on üks Vetek Semiconductor käivitatud tööstuse tavatooteid. Vetek Semiconductori valimine tähendab partnerlust ettevõttega, kes on pühendunud räni karbiidi katte innovatsiooni piiridele. Pidades suurt rõhku kvaliteedile, jõudlusele ja kliendirahulolule, edastame tooteid, mis mitte ainult ei vasta pooljuhtide tööstuse rangetele nõudmistele. Aidake meil saavutada meie täiustatud Aixtron G5+ laekomponendilahendustega suuremat tõhusust, töökindlust ja edu.
For inquiries about Silicon Carbide Coating, Tantalum Carbide Coating, Special Graphite or price list, please leave your email to us and we will be in touch within 24 hours.
Kasutame küpsiseid, et pakkuda teile paremat sirvimiskogemust, analüüsida saidi liiklust ja isikupärastada sisu. Seda saiti kasutades nõustute meie küpsiste kasutamisega. Privaatsuspoliitika