Vahvlihoidja VEECO MOCVD (LED Epitaxy) jaoks

Toote omadused:

1. Kõrge puhtusastmega grafiidist alus tiheda CVD SiC kihiga
2. Hea termiline ühtlus stabiilse LED-epitaksi jaoks
3. Talub NH₃, HCl ja muid protsessis kasutatavaid söövitavaid gaase
4. Madal osakeste eraldamine ja pikk kasutusiga
5. Taskukujundusi saab kohandada erinevate vahvlisuuruste ja reaktoriplatvormide jaoks
6. Töötab hästi pikaajaliseks kõrge temperatuuriga MOCVD tööks

Rakendused:
Neid vahvlikandjaid kasutatakse laialdaselt LED- ja liitpooljuhtide epitaksis, sealhulgas:

• GaN LED-epitaksia
• Sinine-roheline LED-epitaksika
• Sügav UV-LED-kasv
• Si-põhine GaN-epitaksia
• Üldine liitpooljuhtide tootmine

Kohandatud kandurilahendused sobivad mitmele LED MOCVD platvormile, näiteks:

• VEECO K465i
• VEECO K700
• VEECO K868
• Aixtron G4/G5
• A7/Unimax

Tehnilised eelised:

1. CVD SiC katetehnoloogia, mis annab teile hea tiheduse ja puhtuse
2. Katte paksuse kõikumine ±10 μm piires – aitab termiliselt stabiilsena püsida
3. CNC-töötlemine kuni 3 μm täpsusega vahvlite hea sobivuse ja pöörlemise stabiilsuse tagamiseks
4. Kate kleepub hästi ja on pärast korduvaid kõrge temperatuuriga MOCVD tsükleid vastupidav pragunemisele
5. Saab probleemideta hakkama NH₃, HCl ja muude karmide epitaksia keskkondadega
6. Madal osakeste teke ja puhas pind suure saagikuse toetamiseksLED-epitaksia
7. Saab katta suuri või kohandatud suurusi erinevatele reaktoriplatvormidele ja vahvlipaigutustele
8. Pikaajaline kogemuskohandatud grafiidi- ja SiC-kattega osadLED- ja liitpooljuhtide epitaksika jaoks

KKK:
1. Mida teeb vahvlikandjaMOCVDLED-epitaksia?

V: See hoiab ja pöörab vahvleid MOCVD reaktoris ning aitab hoida epitaksiaalse kasvu ajal temperatuuri ühtlasena.

2. Miks kasutada MOCVD jaoks SiC-kattega grafiidist vahvlikandjaid?

A:CVD SiC kateannab parema korrosioonikindluse, termilise stabiilsuse ja vastupidavuse. Samuti aitab see vähendada osakeste saastumist kõrgel temperatuuril.

3. Kas Vetek Semiconductor valmistab kohandatud vahvlikandjaid?
V: Jah. Saame kujundada kohandatud kandjaid teie reaktoriplatvormi, vahvli suuruse, tasku paigutuse ja muude protsessivajaduste põhjal.