SIC -katte grafiidi MOCVD kütteseade

MOCVD on täppis õhukese kile kasvutehnoloogia, mida kasutatakse laialdaselt pooljuhtide, optoelektrooniliste ja mikroelektrooniliste seadmete valmistamisel. MOCVD tehnoloogia abil saab kvaliteetseid pooljuhtmaterjalist kilesid kanda aluspindadele (nagu räni, safiir, ränikarbiid jne).

MOCVD seadmetes pakub SiC Coating grafiit MOCVD kütteseade kõrge temperatuuriga reaktsioonikambris ühtlase ja stabiilse kuumutuskeskkonna, võimaldades gaasifaasi keemilise reaktsiooni kulgemist, sadestades seeläbi soovitud õhukese kile substraadi pinnale.

VeTek Semiconductor's SiC Coating grafiidist MOCVD küttekeha on valmistatud kvaliteetsest SiC kattega grafiitmaterjalist. SiC-kattega grafiidist MOCVD küttekeha genereerib soojust takistuskütte põhimõttel.

SiC Coating grafiidist MOCVD küttekeha südamik on grafiidist põhimik. Voolu rakendatakse välise toiteallika kaudu ja grafiidi takistusomadusi kasutatakse soojuse genereerimiseks, et saavutada vajalik kõrge temperatuur. Grafiidist aluspinna soojusjuhtivus on suurepärane, mis suudab kiiresti soojust juhtida ja temperatuuri ühtlaselt üle kanda kogu kerise pinnale. Samal ajal ei mõjuta SIC -kate grafiidi soojusjuhtivust, võimaldades küttekehal reageerida kiiresti temperatuurimuutustele ja tagada temperatuuri ühtlase jaotuse.

Puhas grafiit on kõrgel temperatuuril oksüdeeruv. SiC kate isoleerib tõhusalt grafiidi otsese kokkupuute eest hapnikuga, vältides seeläbi oksüdatsioonireaktsioone ja pikendades küttekeha eluiga. Lisaks kasutavad MOCVD seadmed keemiliseks aurustamiseks sadestamiseks söövitavaid gaase (nagu ammoniaak, vesinik jne). SiC katte keemiline stabiilsus võimaldab sellel tõhusalt seista vastu nende söövitavate gaaside erosioonile ja kaitsta grafiidist aluspinda.

Kõrgetel temperatuuridel võivad katmata grafiitmaterjalid eraldada süsinikuosakesi, mis mõjutavad kile sadestumise kvaliteeti. SiC katte pealekandmine pärsib süsinikuosakeste eraldumist, võimaldades MOCVD protsessi läbi viia puhtas keskkonnas, mis vastab kõrgete puhtusnõuetega pooljuhtide tootmise vajadustele.

Lõpuks on SiC Coating grafiidist MOCVD kütteseade tavaliselt konstrueeritud ümmarguse või muu korrapärase kujuga, et tagada aluspinnal ühtlane temperatuur. Temperatuuri ühtlus on kriitilise tähtsusega paksude kilede ühtlaseks kasvuks, eriti III-V ühendite nagu GaN ja InP MOCVD epitaksiaalses kasvuprotsessis.

VeTeK Semiconductor pakub professionaalseid kohandamisteenuseid. Tööstusharu juhtivad töötlus- ja SiC katmisvõimalused võimaldavad meil toota MOCVD-seadmetele tipptasemel küttekehasid, mis sobivad enamiku MOCVD-seadmete jaoks.

CVD SiC katte põhilised füüsikalised omadused

VeTeK Semiconductor  SiC Coating grafiit MOCVD küttekehad