Tooted

Ränikarbiidi kate

VeTek Semiconductor on spetsialiseerunud ülipuhaste ränikarbiidkattega toodete tootmisele, need katted on mõeldud kasutamiseks puhastatud grafiidile, keraamikale ja tulekindlatele metallkomponentidele.


Meie kõrge puhtusastmega katted on peamiselt mõeldud kasutamiseks pooljuhtide ja elektroonikatööstuses. Need toimivad kaitsva kihina vahvlikandjatele, sustseptoritele ja kütteelementidele, kaitstes neid söövitavate ja reaktiivsete keskkondade eest, mis tekivad sellistes protsessides nagu MOCVD ja EPI. Need protsessid on vahvlite töötlemise ja seadmete valmistamise lahutamatud. Lisaks sobivad meie katted hästi kasutamiseks vaakumpahjudes ja prooviküttes, kus esineb kõrgvaakum-, reaktiiv- ja hapnikukeskkonda.


VeTek Semiconductoris pakume terviklikku lahendust koos meie täiustatud masinatöökoja võimalustega. See võimaldab meil toota põhikomponente kasutades grafiiti, keraamikat või tulekindlaid metalle ning kanda peale SiC või TaC keraamilisi katteid ettevõttesiseselt. Pakume ka klientide tarnitud osade katmisteenust, tagades paindlikkuse erinevate vajaduste rahuldamiseks.


Meie ränikarbiidi kattetooteid kasutatakse laialdaselt Si epitaksis, SiC epitaksis, MOCVD süsteemis, RTP / RTA protsessis, söövitusprotsessis, ICP / PSS söövitusprotsessis, erinevat tüüpi LED-i protsessides, sealhulgas sinine ja roheline LED, UV LED ja sügav UV LED jne, mis on kohandatud LPE, Aixtroni, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI ja nii edasi seadmetele.


Reaktori osad, mida saame teha:


Aixtron G5 MOCVD Susceptors


Ränikarbiidkattel on mitmeid ainulaadseid eeliseid:

Silicon Carbide Coating several unique advantages



VeTeki pooljuht ränikarbiidi katte parameeter

CVD SiC katte põhilised füüsikalised omadused
Kinnisvara Tüüpiline väärtus
Kristalli struktuur FCC β faasi polükristalliline, peamiselt (111) orienteeritud
SiC kate Tihedus 3,21 g/cm³
SiC katte kõvadus 2500 Vickersi kõvadus (koormus 500 g)
Tera suurus 2-10 μm
Keemiline puhtus 99,99995%
Soojusvõimsus 640 J·kg-1·K-1
Sublimatsiooni temperatuur 2700 ℃
Paindetugevus 415 MPa RT 4-punktiline
Youngi moodul 430 Gpa 4pt painutus, 1300 ℃
Soojusjuhtivus 300W·m-1·K-1
Soojuspaisumine (CTE) 4,5×10-6K-1

CVD SIC FILMIKRISTALLI STRUKTUUR

CVD SIC FILM CRYSTAL STRUCTURE



View as  
 
MOCVD tugi

MOCVD tugi

MOCVD vastuvõtja iseloomustatakse planeedi kettaga ja epitaxy stabiilse jõudluse poolest. Vetek Semiconductoril on rikkalik kogemus selle toote töötlemise ja CVD sic -kattega, oodake meiega suhelda reaalsetest juhtumitest.
Eelsoojendusrõngas

Eelsoojendusrõngas

Eelkuumenemisrõngast kasutatakse pooljuhtide epitaksia protsessis vahvlite eelsoojendamiseks ja vahvlite temperatuuri stabiilsemaks ja ühtlaseks muutmiseks, mis on epitaksiakihtide kvaliteetse kasvu jaoks suur tähtsus. Vetek Semiconductor kontrollib selle toote puhtust rangelt, et vältida lisandite lendumist kõrgel temperatuuril. Pealegi pidage meiega edasist arutelu.
Vahvli tõstetihvt

Vahvli tõstetihvt

VeTek Semiconductor on juhtiv EPI Wafer Lift Pin tootja ja uuendaja Hiinas. Oleme juba aastaid spetsialiseerunud grafiidi pinna ränidioksiidi katmisele. Epi protsessi jaoks pakume EPI Wafer Lift Pin. Kõrge kvaliteediga ja konkurentsivõimelise hinnaga tervitame teid külastama meie tehast Hiinas.
SiC-kattega tünni sustseptor

SiC-kattega tünni sustseptor

Epitaxy on meetod, mida kasutatakse pooljuhtseadmete valmistamisel, et kasvatada olemasoleval kiibil uusi kristalle, et luua uus pooljuhtkiht. VeTek Semiconductor pakub laiaulatuslikku komponentlahenduste komplekti LPE räni epitaksikambrite jaoks, mis tagavad pika eluea, stabiilse kvaliteedi ja parema epitaksiaalse kihi. kihi saagis. Meie toode, näiteks SiC Coated Barrel Susceptor, sai klientidelt tagasisidet asukoha kohta. Pakume ka tehnilist tuge Si Epi, SiC Epi, MOCVD, UV-LED Epitaxy ja muu jaoks. Küsige julgelt hinnainfot.
Kui EPI vastuvõtja

Kui EPI vastuvõtja

Hiina tipptehas-Vetek Semiconductor ühendab endas täppistöötluse ning pooljuhtide SiC ja TaC katmise võimalused. Tünnitüüpi Si Epi Susceptor pakub temperatuuri ja atmosfääri reguleerimise võimalusi, suurendades tootmise efektiivsust pooljuhtide epitaksiaalsetes kasvuprotsessides. Ootan teiega koostöösuhte loomist.
SiC kaetud epi retseptor

SiC kaetud epi retseptor

Räni karbiidi ja tantaalkarbiidikatete kodumaise tootjana suudab Vetek Semiconductor pakkuda SIC -i kaetud EPI -vastuvõtja täpse töötlemise ja ühtlase katte, kontrollides tõhusalt katte ja produkti puhtust alla 5 ppm. Toote elu on võrreldav SGL -iga. Tere tulemast meile küsima.
Hiinas professionaalse Ränikarbiidi kate tootja ja tarnijana on meil oma tehas. Ükskõik, kas vajate oma piirkonna konkreetsete vajaduste rahuldamiseks kohandatud teenuseid või soovite Hiinas valmistatud täiustatud ja vastupidavat Ränikarbiidi kate osta, võite jätta meile sõnumi.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept